Состав: Сухой шампунь Kapous Studio Professional After party
Разбор состава Kapous Studio Professional After party: распознанные ингредиенты в порядке INCI-списка — от самых высоких концентраций к самым низким. Для каждого компонента указаны функция и уровень доказательности.
Распознано 11 из 11 компонентов с этикетки.
Коротко о составе
- Распознано компонентов
- 11 из 11
- Активы с доказанным действием
- нет
- Комедогенные компоненты
- не найдены
- Отдушки и аллергены
- Отдушка (parfum/fragrance)
- Конфликты внутри формулы
- нет
Ингредиенты с расшифровкой (11)
- ButaneБутан№1Текстура / загустительОграниченная доказательная база
пропеллент
- PropaneПропан№2Текстура / загустительОграниченная доказательная база
пропеллент
- IsobutaneИзобутан№3Текстура / загустительОграниченная доказательная база
пропеллент
- Alcohol Denat.Денатурированный спирт№4СпиртСильная доказательная база
Растворитель и стартовый компонент: быстрое высыхание текстур
- Oryza Sativa StarchРисовый крахмал№5Текстура / загустительОграниченная доказательная база
абсорбент; связывающее; наполнитель; регулирование вязкости
- Cetrimonium ChlorideЦетримоний хлорид№6ЭмульгаторОграниченная доказательная база
антимикробное действие; антистатический эффект; ПАВ: эмульгирование; консервант
- PanthenolПантенол№7УвлажнительУмеренная доказательная база
Провитамин B5: увлажняет, успокаивает, ускоряет заживление
- Argania Spinosa Kernel OilАргановое масло№8ЭмолентОграниченная доказательная база
Питательное масло: линолевая кислота, витамин E и сквален
- Phenyl TrimethiconeФенил триметикон№9СиликонУмеренная доказательная база
Лёгкий силикон: шелковистое скольжение и глянец без тяжести
- Silica Dimethyl SilylateДиметилсилилат диоксида кремния№10ПАВ / очищениеОграниченная доказательная база
антислеживающее; пеногашение; смягчение кожи (эмолент); стабилизация эмульсии; регулирование вязкости
- ParfumОтдушка (parfum/fragrance)№11ОтдушкаСильная доказательная база
Ароматическая композиция: запах продукта
Состав (INCI)
Butane, Propane, Isobutane, Alcohol Denat., Oryza Sativa Starch, Cetrimonium Chloride, Panthenol, Argania Spinosa Kernel Oil, Phenyl Trimethicone, Silica Dimethyl Silylate, Parfum
Открыть в разборе составаСостав с упаковки (исходный текст)
Butane, Propane, Isobutane, Alcohol Denat, Oryza Sativa (Rice) Starch, Cetrimonium Chloride, Panthenol, Argania Spinosa Kernel Oil, Phenyl Trimethicone, Silica Dimethyl Silylate, Parfum
Похожие по составу средства
Частые вопросы
Какой состав у Kapous Studio Professional After party?
В нашей базе разобрано 11 ингредиентов этого средства (распознано 11 из 11 компонентов с этикетки): Butane, Propane, Isobutane, Alcohol Denat., Oryza Sativa Starch, Cetrimonium Chloride, Panthenol, Argania Spinosa Kernel Oil, Phenyl Trimethicone, Silica Dimethyl Silylate, Parfum. Функция и доказательная база каждого — в разделе «Ингредиенты с расшифровкой».
Хороший ли состав у Kapous Studio Professional After party?
Мы не ставим оценку «хорошо/плохо» — она зависит от вашей кожи. По данным: активов с сильной или умеренной доказательной базой нет; комедогенных компонентов не найдено; отдушки и аллергены — Отдушка (parfum/fragrance).
Есть ли конфликты активов в Kapous Studio Professional After party?
Зафиксированных конфликтов между ингредиентами этой формулы нет.
Какие есть аналоги Kapous Studio Professional After party по составу?
Ближе всего по составу: LILLEBORG AS Define Dry Shampoo Weightless 200ml, Kapous Fresh&Up, Cora Shampooing sec, Balea Trockenshampoo sweet embrace.