Состав cosnova Catrice More than Nude nail polish
Разбор состава cosnova Catrice More than Nude nail polish: распознанные ингредиенты в порядке INCI-списка — от самых высоких концентраций к самым низким. Для каждого компонента указаны функция и уровень доказательности.
Распознано 12 из 18 компонентов с этикетки.
Состав распознан не полностью
На этикетке 18 компонентов, в нашей базе распознано 12. Разбор может быть неточным: аллергены, консерванты или кислоты могли остаться в нераспознанной части — сверьтесь с упаковкой (исходный текст состава ниже).
Коротко о составе
- Распознано компонентов
- 12 из 18
- Активы с доказанным действием
- нет
- Комедогенные компоненты
- не найдены в распознанной части состава
- Отдушки и аллергены
- Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Acetyl Tributyl Citrate, N-Butyl Alcohol, Diacetone Alcohol
- Конфликты внутри формулы
- нет в распознанной части состава
Ингредиенты с расшифровкой (12)
- Butyl Acetate№1ОтдушкаОграниченная доказательная база
отдушка; растворитель
- Ethyl Acetate№2ОтдушкаОграниченная доказательная база
растворитель; придание аромата
- Nitrocellulose№3Текстура / загустительОграниченная доказательная база
плёнкообразование; диспергатор (не-ПАВ)
- Adipic Acid№4Регулятор pHОграниченная доказательная база
регулирование pH; отдушка
- Neopentyl Glycol№5Текстура / загустительОграниченная доказательная база
пластификатор; растворитель
- Isopropyl Alcohol№7ПАВ / очищениеОграниченная доказательная база
пеногашение; растворитель; регулирование вязкости; придание аромата
- Acetyl Tributyl Citrate№8ОтдушкаОграниченная доказательная база
отдушка; пластификатор; придание аромата
- Mica№11Текстура / загустительОграниченная доказательная база
антислеживающее; наполнитель; краситель; придание непрозрачности
- N-Butyl Alcohol№12ОтдушкаОграниченная доказательная база
денатурирующее; растворитель; придание аромата
- Diacetone Alcohol№13ОтдушкаОграниченная доказательная база
отдушка; растворитель; придание аромата
- Benzophenone-1№16UV-фильтрОграниченная доказательная база
фотостабилизатор; УФ-поглотитель
- Phosphoric Acid№17Регулятор pHОграниченная доказательная база
регулирование pH
Состав (INCI)
Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Nitrocellulose, Adipic Acid, Neopentyl Glycol, Isopropyl Alcohol, Acetyl Tributyl Citrate, Mica, N-Butyl Alcohol, Diacetone Alcohol, Benzophenone-1, Phosphoric Acid
Открыть в разборе составаСостав с упаковки (исходный текст)
Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Nitrocellulose, Adipic Acid,/Neopentyl Glycol, Trimellitic Anhydride Copolymer, Isopropyl Alcohol, Acetyl Tributyl Citrate, Steralkonium Bentonite, Acrylglas Copolymer, Mica, N-Butyl Alcohol, Diacetone Alcohol, Silicate, Tina oxide, Benzophenone-1, Phosphoric Acid, Sortiment Acid
Данные о продукте © Open Beauty Facts contributors, ODbL v1.0.
Похожие по составу средства
Частые вопросы
Какой состав у cosnova Catrice More than Nude nail polish?
В нашей базе разобрано 12 ингредиентов этого средства (распознано 12 из 18 компонентов с этикетки): Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Nitrocellulose, Adipic Acid, Neopentyl Glycol, Isopropyl Alcohol, Acetyl Tributyl Citrate, Mica, N-Butyl Alcohol, Diacetone Alcohol, Benzophenone-1, Phosphoric Acid. Функция и доказательная база каждого — в разделе «Ингредиенты с расшифровкой». Состав распознан не полностью — сверьтесь с упаковкой.
Хороший ли состав у cosnova Catrice More than Nude nail polish?
Мы не ставим оценку «хорошо/плохо» — она зависит от вашей кожи. По данным распознанной части состава: активов с сильной или умеренной доказательной базой нет; комедогенных компонентов не найдено; отдушки и аллергены — Butyl Acetate, Ethyl Acetate, Acetyl Tributyl Citrate, N-Butyl Alcohol, Diacetone Alcohol.
Есть ли конфликты активов в cosnova Catrice More than Nude nail polish?
Зафиксированных конфликтов между ингредиентами этой формулы нет (по распознанной части состава).
Какие есть аналоги cosnova Catrice More than Nude nail polish по составу?
Ближе всего по составу: Avril Vernis à ongle - Taupe, Essence Gel nail polish 26 Wow Cacao, 8 ml, Pastel Pastel Nail Polish Oje No: 463, Essence Anti Split nail sealer.